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LUPATECH TECVAL

Registro de marca em vigor

Marca Mista depositada no INPI em 10/08/2009 por LUPATECH S/A, processo nº 901851108, nas classes 06. Registro em vigor até 24/12/2033.

Número do processo901851108
SituaçãoRegistro de marca em vigor
ApresentaçãoMista
NaturezaDe Produto
Data do depósito10/08/2009
Data da concessão24/12/2013
Vigência até24/12/2033
TitularLUPATECH S/A
CNPJ/CPF do titular89.463.822/0009-70
UF · PaísSP · BR

Classes e especificação

Classe 06 — Metais comuns

CANOS DE ÁGUA (VÁLVULAS DE METAL PARA -); TUBOS DE METAL PARA DRENAGEM [VÁLVULAS]; VÁLVULAS DE METAL [EXCETO PEÇAS DE MÁQUINAS].;

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Receba um e-mail a cada novo despacho publicado na RPI para o processo 901851108 — exigência, oposição, deferimento, prazo de pagamento — e quando alguém depositar uma marca parecida.

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Andamento do processo no INPI

5 despacho(s) publicado(s) na Revista da Propriedade Industrial.

  1. 16/01/2024 Deferimento da petição <b>Protocolo:</b> 800230466954 (14/12/2023) <br /> <b>Petição (tipo):</b> Prorrogação de registro de marca e expedição de certificado no prazo ordinário (374.5)<br /><b>Titular(es): </b>LUPATECH S/A<br /><b>Procurador: </b>MÁRIO DE ALMEIDA E ANTONINI PROPRIEDADE INTELECTUAL<br /> código IPAS270 · RPI 2767
  2. 24/12/2013 Concessão de registro código IPAS158 · RPI 2242
  3. 09/04/2013 DEFERIDO o pedido de registro, com base no Art. 122 da LPI. Inicia-se nesta data, o prazo de 60 (sessenta) dias para que o requerente comprove, junto ao INPI, o recolhimento das RETRIBUIÇÕES RELATIVAS À PROTEÇÃO DECENAL E À EXPEDIÇÃO DE CERTIFICADO, no exato valor previsto na tabela de custos de serviços prestados, vigente à época do recolhimento. A retribuição poderá ainda ser recolhida e comprovada, conforme o disposto no parágrafo único do Art. 162 da LPI, SOB PENA DE ARQUIVAMENTO DEFINITIVO DO PEDIDO. código 351 · RPI 2205
  4. 19/03/2013 ANOTADA A TRANSFERENCIA. CED - TECVAL S/A -VÁLVULAS INDUSTRIAIS código 235 · RPI 2202
  5. 29/09/2009 PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI. código 003 · RPI 2021

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