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PAMELA GRANT

Pedido definitivamente arquivado

Marca Nominativa depositada no INPI em 05/07/2011 por COSMETICA NACIONAL LTDA, processo nº 831106700, nas classes 03. O processo não está mais ativo — o nome pode estar livre para novo pedido.

Número do processo831106700
SituaçãoPedido definitivamente arquivado
ApresentaçãoNominativa
NaturezaDe Produto
Data do depósito05/07/2011
Data da concessão
Vigência até
TitularCOSMETICA NACIONAL LTDA
UF · País— · CL

Classes e especificação

Classe 03 — Cosméticos e limpeza

PREPARADOS PARA BRANQUEAR E OUTRAS SUBSTÂNCIAS PARA USO EM LAVANDERIA; PREPARADOS PARA LIMPAR, POLIR, DESENGORDURAR E RASPAR; SABÕES; PERFUMARIA, ÓLEOS ESSENCIAIS, COSMÉTICOS, LOÇÕES PARA OS CABELOS; DENTIFRÍCIOS; TODOS OS ITENS SUPRACITADOS INCLUÍDOS NESTA CLASSE.;

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Receba um e-mail a cada novo despacho publicado na RPI para o processo 831106700 — exigência, oposição, deferimento, prazo de pagamento — e quando alguém depositar uma marca parecida.

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Andamento do processo no INPI

4 despacho(s) publicado(s) na Revista da Propriedade Industrial.

  1. 06/10/2015 Arquivamento definitivo de pedido de registro por falta de pagamento da concessão código IPAS157 · RPI 2335
  2. 05/05/2015 Deferimento do pedido <b>Detalhes do despacho: </b>Inserida e expressão "todos os itens supracitados incluídos nesta classe" para melhor adequação à NCL(9) reivindicada. código IPAS029 · RPI 2313
  3. 29/07/2014 Exigência de mérito <b>Detalhes do despacho: </b>Prove o requerente ser titular do nome civil ou da assinatura, objeto do pedido, ou apresente autorização expressa para registrar o mesmo como marca, em conformidade com o artigo 124, XV, da Lei da Propriedade Industrial (LPI, lei n.º 9.279, de 14 de maio de 1996). Art. 124 - Não são registráveis como marca: XV - nome civil ou sua assinatura, nome de família ou patronímico e imagem de terceiros, salvo com consentimento do titular, herdeiros ou sucessores; código IPAS136 · RPI 2273
  4. 01/11/2011 PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI. código 003 · RPI 2130

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